WW-IND-001
プロセス用レーザーガス分析システム
TDLASで燃焼制御や安全監視に用いるプロセスガスを測定します。現場直接測定、バイパス測定、微量ガス測定の構成を用途に応じて選択できます。
製品を見る用途
- 排ガス中水銀監視
- 産業排出分析
- 水銀連続測定
仕様
| 測定方式 | CVAFS |
|---|---|
| 測定項目 | Hg0, Hg2+, HgT |
| 測定範囲 | 0.1–20–500 μg/m³ |
| 精度 | ≤±2% |
仕様はモデルや構成によって異なる場合があります。ご用途への適合性については、お問い合わせください。
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