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プロセス用レーザーガス分析システム
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産業監視

プロセス用レーザーガス分析システム

WW-IND-001WW-IND-002WW-IND-003

TDLASで燃焼制御や安全監視に用いるプロセスガスを測定します。現場直接測定、バイパス測定、微量ガス測定の構成を用途に応じて選択できます。

用途

  • 燃焼制御
  • プロセスガス監視
  • 微量ガス測定

仕様

測定方式TDLAS
測定項目O2, CO, CO2, NH3, H2O, CH4, H2S
インターフェース2 × 4–20 mA; 3 × 24 V DC / 1 A

仕様はモデルや構成によって異なる場合があります。ご用途への適合性については、お問い合わせください。

メーカー: FPI

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