WW-IND-001
プロセス用レーザーガス分析システム
TDLASで燃焼制御や安全監視に用いるプロセスガスを測定します。現場直接測定、バイパス測定、微量ガス測定の構成を用途に応じて選択できます。
製品を見る| 測定方式 | UV |
|---|---|
| 測定項目 | HCl, Cl2 |
| 測定範囲 | HCl: 0–100%; Cl2: 150–5000 ppm |
| インターフェース | RS485; RS232/GPRS |
仕様はモデルや構成によって異なる場合があります。ご用途への適合性については、お問い合わせください。
メーカー: FPI
TDLASで燃焼制御や安全監視に用いるプロセスガスを測定します。現場直接測定、バイパス測定、微量ガス測定の構成を用途に応じて選択できます。
製品を見る紫外線分析によりクラウス法のテールガス中の硫化水素と二酸化硫黄を連続測定します。減圧プローブと試料調整系を備え、硫黄回収工程の制御に利用できます。
製品を見る