प्रक्रिया गैसों की लेज़र विश्लेषण प्रणाली
TDLAS तकनीक से दहन नियंत्रण और सुरक्षा निगरानी के लिए प्रक्रिया गैसों का मापन करती है। सीधे स्थल पर, बायपास मार्ग में और सूक्ष्म मात्रा वाली गैसों के लिए अलग विन्यास उपलब्ध हैं।
उत्पाद देखेंफ्लू गैस में ऑक्सीजन तथा जलवाष्प सीधे मापता है। नियंत्रित ताप और संकेत प्रसंस्करण से क्षतिपूर्ति देकर एनालॉग आउटपुट तथा डिजिटल संचार प्रदान करता है।
| मापे जाने वाले मानक | O2, H2O |
|---|---|
| मापन सीमा | O2 0–25%; H2O 0–40% |
| प्रतिक्रिया समय | T90 <30 s |
| इंटरफ़ेस | RS485 / Modbus / 4–20 mA |
| विद्युत आपूर्ति | 24 VDC |
| संचालन तापमान | −20–50 °C |
मॉडल और विन्यास के अनुसार विनिर्देश अलग हो सकते हैं। अपने अनुप्रयोग के लिए उपयुक्तता की पुष्टि करने हेतु हमसे संपर्क करें।
निर्माता: Sheens
TDLAS तकनीक से दहन नियंत्रण और सुरक्षा निगरानी के लिए प्रक्रिया गैसों का मापन करती है। सीधे स्थल पर, बायपास मार्ग में और सूक्ष्म मात्रा वाली गैसों के लिए अलग विन्यास उपलब्ध हैं।
उत्पाद देखेंक्लाउस प्रक्रिया की टेल गैस में हाइड्रोजन सल्फाइड और सल्फर डाइऑक्साइड का पराबैंगनी विधि से निरंतर मापन करता है। दाब घटाने वाला प्रोब और नमूना तैयारी प्रणाली प्रक्रिया नियंत्रण में सहायता करते हैं।
उत्पाद देखेंक्लोर-अल्कली प्रक्रियाओं में हाइड्रोजन क्लोराइड की शुद्धता और क्लोरीन की सूक्ष्म मात्रा का पराबैंगनी विश्लेषण करता है। पूर्ण स्पेक्ट्रम विश्लेषण के साथ संक्षारण-रोधी नमूना पूर्व-उपचार प्रणाली जुड़ी है।
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