TDLAS तकनीक से दहन नियंत्रण और सुरक्षा निगरानी के लिए प्रक्रिया गैसों का मापन करती है। सीधे स्थल पर, बायपास मार्ग में और सूक्ष्म मात्रा वाली गैसों के लिए अलग विन्यास उपलब्ध हैं।
| मापन विधि | TDLAS |
|---|---|
| मापे जाने वाले मानक | O2, CO, CO2, NH3, H2O, CH4, H2S |
| इंटरफ़ेस | 2 × 4–20 mA; 3 × 24 V DC / 1 A |
मॉडल और विन्यास के अनुसार विनिर्देश अलग हो सकते हैं। अपने अनुप्रयोग के लिए उपयुक्तता की पुष्टि करने हेतु हमसे संपर्क करें।
निर्माता: FPI
क्लाउस प्रक्रिया की टेल गैस में हाइड्रोजन सल्फाइड और सल्फर डाइऑक्साइड का पराबैंगनी विधि से निरंतर मापन करता है। दाब घटाने वाला प्रोब और नमूना तैयारी प्रणाली प्रक्रिया नियंत्रण में सहायता करते हैं।
उत्पाद देखेंक्लोर-अल्कली प्रक्रियाओं में हाइड्रोजन क्लोराइड की शुद्धता और क्लोरीन की सूक्ष्म मात्रा का पराबैंगनी विश्लेषण करता है। पूर्ण स्पेक्ट्रम विश्लेषण के साथ संक्षारण-रोधी नमूना पूर्व-उपचार प्रणाली जुड़ी है।
उत्पाद देखेंगैस संयंत्रों और पाइपलाइनों के आसपास ज्वलनशील तथा विषैली गैसों का पता लगाती है। लक्ष्य गैस के अनुसार सेंसर, स्थानीय संकेतक, दृश्य या ध्वनि अलार्म और संचार विकल्प उपलब्ध हैं।
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