WW-IND-001
Système laser d'analyse des gaz de procédé
Plateforme à diode laser accordable pour le contrôle de combustion et des gaz de procédé.
Voir le produitInstrument in situ pour oxygène et vapeur d'eau dans les fumées. Chauffage contrôlé et traitement du signal fournissent des concentrations compensées, avec interfaces pour la surveillance des émissions.
| Paramètres mesurés | O2, H2O |
|---|---|
| Plage de mesure | O2 0–25%; H2O 0–40% |
| Temps de réponse | T90 <30 s |
| Interface | RS485 / Modbus / 4–20 mA |
| Alimentation | 24 VDC |
| Température de fonctionnement | −20–50 °C |
Les caractéristiques peuvent varier selon le modèle et la configuration. Contactez-nous pour vérifier leur adéquation avec votre application.
Fabricant: Sheens
Plateforme à diode laser accordable pour le contrôle de combustion et des gaz de procédé.
Voir le produitAnalyse ultraviolet du sulfure d'hydrogène et du dioxyde de soufre dans les gaz résiduaires du procédé Claus.
Voir le produitSystème ultraviolet pour vérifier la pureté du chlorure d'hydrogène et les traces de chlore.
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