WW-IND-001
Système laser d'analyse des gaz de procédé
Plateforme à diode laser accordable pour le contrôle de combustion et des gaz de procédé.
Voir le produitSystème associant dilution et fluorescence atomique à vapeur froide pour mesurer le mercure élémentaire, ionique et total dans les fumées, avec génération interne de gaz d'étalonnage.
| Méthode de mesure | CVAFS |
|---|---|
| Paramètres mesurés | Hg0, Hg2+, HgT |
| Plage de mesure | 0.1–20–500 μg/m³ |
| Précision | ≤±2% |
Les caractéristiques peuvent varier selon le modèle et la configuration. Contactez-nous pour vérifier leur adéquation avec votre application.
Plateforme à diode laser accordable pour le contrôle de combustion et des gaz de procédé.
Voir le produitAnalyse ultraviolet du sulfure d'hydrogène et du dioxyde de soufre dans les gaz résiduaires du procédé Claus.
Voir le produitSystème ultraviolet pour vérifier la pureté du chlorure d'hydrogène et les traces de chlore.
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